ISSN 1996-0948 · EISSN 2949-561X
Языки: ru · en

Статья: Распыление карбидных пленок с поверхности титана и вольфрама ионами гелия средних энергий (2022)

Читать онлайн

Аналитическая модель распыления бинарных слоистых неоднородных мишеней применена к случаю распыления пленок карбида металла с поверхности металла ионами гелия. На основе модели получена аналитическая формула, позволяющая рассчитать полный и парциальные коэффициенты распыления неоднородных мишеней легкими ионами. Результаты расчетов полных коэффициентов распыления пленок карбидов титана и вольфрама с поверхности металлов ионами гелия приведены в сравнении с результатами компьютерного моделирования.

The analytical model of sputtering of binary layered inhomogeneous targets is applied to the case of sputtering of metal carbide films from the metal surface with helium ions. On the basis of the model, an analytical formula was obtained that allows to calculate the complete and partial sputtering yields of inhomogeneous targets by light ions. The calculation results of the total sputtering yields of titanium and tungsten carbide films from the surface of metals by helium ions are given in comparison with the results of computer simulation.

Ключевые фразы: модифицированная поверхность, РАСПЫЛЕНИЕ, легкие ионы, ИОННАЯ БОМБАРДИРОВКА, карбиды металлов, слоисто-неоднородные поверхности, парциальный коэффициент распыления, modified surface, ion bombardment, sputtering, light ions, layered surface, metal carbide, partial sputtering yield, sputtering yield
Автор (ы): Манухин Владимир Владимирович
Журнал: Прикладная физика

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
538.93. Явления переноса (кроме переноса в квантовых жидкостях и твердых телах)
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-3-67-72
eLIBRARY ID
49167086
Для цитирования:
МАНУХИН В. В. РАСПЫЛЕНИЕ КАРБИДНЫХ ПЛЕНОК С ПОВЕРХНОСТИ ТИТАНА И ВОЛЬФРАМА ИОНАМИ ГЕЛИЯ СРЕДНИХ ЭНЕРГИЙ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2022. № 3
Текстовый фрагмент статьи