ISSN 1996-0948 · EISSN 2949-561X
Языки: ru · en

Статья: Поглощение ИК-излучения в диффузионных слоях структур на основе кремния (2023)

Читать онлайн

Приведены экспериментальные зависимости спектров пропускания в кремниевых об-разцах с диффузионными слоями от поверхностного сопротивления слоев и длины волны излучения. Показано, что величина пропускания длинноволнового излучения в кремниевых структурах удовлетворительно согласуется с расчетом для поглощения на свободных носителях в диффузионных слоях при учете сильной зависимости по-движности носителей от концентрации легирующей примеси.

The experimental data on transmissivity of heavily doped diffusion layers as function of there sheet resistance and wavelength of radiation with accounting free carrier absorbtion in in dif-fused layers are given. Its gives requirements to this layers parameters for reduce this effect on transmissivity. It is shown also, that silicon structure transmissivity data over 1.25 microns wavelength agree with theoretical results with accounting strong dependent free carrier mo-bilities on concentration doping impurities.

Ключевые фразы: кремний, Si, ИК-излучение, свободные носители, концентрация электронов, поверхност-ное сопротивление
Автор (ы): Конорев Дмитрий Сергеевич
Соавтор (ы): Климанов Евгений, Давлетшин Ренат Валиевич, Макарова Элина Алексеевна
Журнал: Прикладная физика

Идентификаторы и классификаторы

УДК
621.383.52. Фотодиоды
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2023-6-41-44
Для цитирования:
КОНОРЕВ Д. С., КЛИМАНОВ Е., ДАВЛЕТШИН Р. В., МАКАРОВА Э. А. ПОГЛОЩЕНИЕ ИК-ИЗЛУЧЕНИЯ В ДИФФУЗИОННЫХ СЛОЯХ СТРУКТУР НА ОСНОВЕ КРЕМНИЯ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2023. № 6
Текстовый фрагмент статьи