ISSN 1996-0948 · EISSN 2949-561X
Языки: ru · en

Статья: Анализ влияния ограничительных факторов в методе дифференциального рассеяния при контроле поверхностных неоднородностей субнанометрового уровня профилей оптических деталей (2022)

Читать онлайн

Для достижения высоких технологические показателей качества различных оптических деталей нового поколения, необходим не только современный подход к методам и средствам обработки деталей, но и реализация перспективных высокоточных бесконтактных методов диагностики. Особое внимание в единой технологической цепочке занимают стадии глубокой полировки, когда высотные статистические параметры профилей достигают нано- и субнанометровых уровней. Для диагностики высотных статистических параметров субнанометрового уровня на сегодняшний день применяются различные классы оптико-электронных приборов и систем. Наибольший интерес в задачах высокоточного аттестационного контроля представляют такие перспективные приборы и системы, как: динамические интерферометры, а также приборы, позволяющие оценивать среднеквадратическое значение поверхностных неоднородностей субнанометрового уровня по данным анализа индикатрисы рассеянного лазерного излучения. В мировой практике методы, основанные на анализе индикатрис рассеянного лазерного излучения, классифицируются на [1–7]: методы полного интегрального рассеяния (TIS – Total Integrated Scattering), методы определения функции распределения коэффициента отражения по двум угловым координатам (метод определения характеристики BRDF – Bidirectional Reflectance Distribution Func-tion), методы дифференциального рассеяния (ARS – Angle-Resolved Scattering). Анализ влияния ограничительных факторов в методе дифференциального рассеяния позволяет определить его систематическую погрешность и повысить точность измерения.

To achieve high technological quality indicators of various optical parts of a new generation, not only a modern approach to the methods and means of processing parts is necessary, but also the implementation of promising high-precision non-contact diagnostic methods. Particular attention in a single technological chain is occupied by the stages of deep polishing, when the height statistical parameters of the profiles reach nano- and sub-nanometer levels. To diagnose high-altitude statistical parameters of the subnanometer level, various classes of optoelectronic devices and systems are currently used. Of greatest interest in the problems of high-precision certification control are such promising devices and systems as: dynamic interferometers, as well as devices that allow estimating the root-mean-square value of surface inhomogeneities of the sub-nanometer level according to the analysis of the scattered laser radiation indicatrix. In world practice, methods based on the analysis of the indicatrices of scattered laser radiation are classi-fied into [1–7]: methods of total integral scattering (TIS-Total Integrated Scattering), methods for determining the distribution function of the reflection coefficient in two angular coordinates (method for determining the characteristic BRDF - Bidirectional Reflectance Distribution Function), differential scattering methods (ARS–Angle-Resolved Scattering). Analysis of the influence of limiting factors in the differential scattering method makes it possible to determine its systematic error by increasing the measurement accuracy.

Ключевые фразы: оптический контроль, метод дифференциального рассеяния, индикатриса рассеяния, поверхностные неоднородности, коэффициент отражения по двум угловым координатам, optical control, differential scattering method, scattering indicatrix, scattering coefficient in two angular coordinates, surface irregularities
Автор (ы): Денисов Дмитрий Геннадьевич
Журнал: Прикладная физика

Идентификаторы и классификаторы

SCI
Физика
УДК
535.42. Дифракция
681.7.02. Процессы получения и обработки оптических деталей
Префикс DOI
10.51368/1996-0948-2022-1-89-96
eLIBRARY ID
48038965
Для цитирования:
ДЕНИСОВ Д. Г. АНАЛИЗ ВЛИЯНИЯ ОГРАНИЧИТЕЛЬНЫХ ФАКТОРОВ В МЕТОДЕ ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНОГО РАССЕЯНИЯ ПРИ КОНТРОЛЕ ПОВЕРХНОСТНЫХ НЕОДНОРОДНОСТЕЙ СУБНАНОМЕТРОВОГО УРОВНЯ ПРОФИЛЕЙ ОПТИЧЕСКИХ ДЕТАЛЕЙ // ПРИКЛАДНАЯ ФИЗИКА. 2022. № 1
Текстовый фрагмент статьи