Работа посвящена плазменному безводородному азотированию аустенитной стали марки AISI 316L (отечественный аналог 03Х17Н14М3). Продемонстрировано, что плазменное азотирование с активным экраном позволяет сформировать твердые диффузионные слои при температуре 570 оС. Без активного экрана формирование упрочненных слоев в безводородной среде происходило при температуре 600 оС и они обладали меньшей толщиной. Увеличение длительности процесса азотирования с активным экраном с 30 до 360 мин привело к увеличению толщины упрочненных слоев с 20 до 100 мкм и повышению содержания фазы расширенного аустенита (S-фаза). Увеличение длительности азотирования сопровождается снижением коррозионной стойкости обработанных образцов AISI 316L. При относительно небольшом времени азотирования удалось сформировать твердые слои толщиной до 20 мкм при сохранении высокой коррозионной стойкости образцов.
The work is devoted to hydrogen-free plasma nitriding of AISI 316L austenitic steel (domestic analogue 03X17H14M3). It has been demonstrated that plasma nitriding with an active screen makes it possible to form solid diffusion layers at a temperature of 570 oC. Whereas, without an active screen, the formation of hardened layers in a hydrogen-free medium occurred at a temperature of 600 oC and they had a shorter length. An increase in the duration of the nitriding process with an active screen from 30 to 360 min led to an increase in the thickness of the hardened layers from 20 to 100 μm and an increase in the content of the expanded austenite phase (S phase). An increase in the duration of nitriding is accompanied by a decrease in the corrosion resistance of the treated AISI 316L samples. With a relatively short nitriding time, it was possible to form hard layers up to 20 μm in length while maintain-ing the high corrosion resistance of the samples.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- УДК
- 539.53. Твердость. Мягкость
621.785.53. Азотирование и поверхностное насыщение другими элементами (кроме углерода) - Префикс DOI
- 10.51368/2307-4469-2022-10-5-469-479
- eLIBRARY ID
- 49616640
Эксперименты по безводородному азотированию аустенитной стали AISI 316L в плазме тлеющего разряда в конфигурации с использованием двойного активного экрана и конфигурацией плазменного азотирования в тлеющем разряде без активного экрана позволили сделать следующие выводы:
– формирование упрочненных диффузионных слоев в конфигурации с активным экраном происходит при более низких температурах, по сравнению с традиционной конфигурацией без активного экрана. Слои, сформированные в конфигурации с активным экраном обладают большей толщиной и твердостью.
– увеличение длительности процесса азотирования в конфигурации с активным экраном способствует увеличению интенсивности -Fe4N пика и S-фазы, а также снижению интенсивности пика нитрида хрома CrN и фазы -Fe2-3N. При длительности процесса 360 мин и температуре 570 оС без использования водо-рода удается сформировать твердый слой толщиной до 100 мкм.
– в процессе безводородного азотирования в конфигурации с двойным активным экраном удается повысить микротвердость поверхности AISI 316L с 240 до 1200 кгс/мм2 и снизить скорость износа с (3,94,4)10-4 мм3Н-1м-1 до (0,96,2)10-5 мм3Н-1м-1.
– кратковременное высокотемпературное азотирование в конфигурации с двойным активным экраном в безводородной среде позволяет повысить износостойкость и твердость аустенитной стали AISI 316L без ухудшения её антикоррозионных свойств.
Список литературы
- Dong F. Y., Zhang P., Pang J. C., Chen D. M., Yang K., Zhang Z. F. // Materials Science and Engineering. A. 2013. Vol. 587. P. 185.
- Lin L.-H., Chen S.-C., Wu C.-Z., Hung J.-M., Ou K.-L. // Applied Surface Science. 2011. Vol. 257. P. 7375.
- Lo K. H., Shek C. H., Lai J. K. L. // Materials Sci-ence and Engineering. R. 2009. Vol. 6. P. 39.
- Bell T. // Surface Engineering. 2002. Vol. 18. P. 415.
- Corujeira Gallo S., Li X., Dong H. // Tribology let-ters. 2012. Vol. 45. P. 153.
- Corujeira Gallo S., Dong H. // Applied Surface Science. 2011. Vol. 258. P. 608.
- Devaraju A., Elaya Perumal A., Alphonsa J., Kailas S. V., Venugopal S. // J. Wear. 2012. Vol. 288. P. 17.
- Martinavicius A., Abrasonis G., Scheinost A. C., Danoix R., Danoix F., Stinville J. C., Talut G., Templier C., Liedke O., Gemming S., Moeller W. // Acta Materialia. 2012. Vol. 60. P. 4065.
- Dong H. // International Materials Reviews. 2010. Vol. 55. P. 65.
- Menthe E., Rie K. T., Schultze J. W., Simson S. // Surface and Coatings Technology. 1995. Vol. 74. № 1. P. 412.
- Lepienski C. M., Nascimento F. C., Foerster C. E., da Silva S. L. R., Siqueira M., Alves Jr. C. // Materials Sci-ence and Engineering. A. 2008. Vol. 489. P. 201.
- Sun Y. // Materials Science and Engineering. A. 2005. Vol. 404. P. 124.
- Gontijo L. C., Machado R., Miola E. J., Casteletti L. C., Alcantara N. G., Nascente P. A. P. // Materials Science and Engineering. 2006. Vol. 431. № 1–2. P. 315.
- De Sousa R. R. M., de Araujo F. O., da Costa J. A. P., Dumelow T., de Oliveira R. S., Alves C. // Vacu-um. 2009. Vol. 83. P. 1402.
- Czerwiec T., Renevier N., Michel H. // Surface and Coatings Technology. 2000. Vol. 131. P. 267.
- Li Y., Wang Z., Wang L. // Applied Surface Sci-ence. 2014. Vol. 298. P. 243.
- Li C. X. // Surface Engineering: 2010. Vol. 26. № 1–2. P. 135.
- Hubbard P., Dowey S. J., Doyle E. D., McCul-loch D. G. // Surface Engineering. 2013. Vol. 22. № 4. P. 243.
- Domínguez-Meister S., Ibáñez I., Dianova A., Bri-zuela M., Braceras I. // Surface and Coatings Technology. 2021. Vol. 411. P. 126998.
- Li C. X., Bell T. // Wear. 2004. Vol. 256. № 11–12. P. 1144.
- Fraczek T., Ogorek M., Skuza Z., Prusak R. // The International Journal of Advanced Manufacturing Tech-nology. 2020. Vol. 109. P. 1357.
- Kim S. G., Lee J. H., Saito N., Takai O. // Journal of Physics Conference Series. 2013. Vol. 417. P. 12.
- Figueroa C. A., Alvarez F. // Applied Surface Sci-ence. 2006. Vol. 253. № 4. P. 1806.
- Sokolowska A., Rudnickib J., Beerc P., Maldzinskie L., Tacikowskid J., Baszkiewicz J. // Surface and Coat-ings Technology. 2001. Vol. 142–144. P. 1040.
- Sharma M. K., Saikia B. K., Phukan A., Gangu-li B. // Surface and Coatings Technology. 2006. Vol. 201. № 6. P. 2407.
- De Sousa R. R. M., de Araujo F. O., Gontijo L. C., da Costa J. A. P., Alves C. // Vacuum. 2012. Vol. 86. P. 2048.
- Oskirko V., Goncharenko I., Pavlov A., Zakha-rov A., Semenov V. // Journal of Physics: Conference Series. 2019. Vol. 1393. P. 012111.
- Oskirko V., Goncharenko I., Pavlov A., Zakha-rov A., Rabotkin S., Grenadyorov A. // 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE). 2020. P. 745–749.
- Sun Y., Li X. Y., Bel T. // Journal of Materials Science volume. 1999. Vol. 34. P. 4793.
- Li C. X., Bell T. // Corrosion Science Volume. 2004. Vol. 46. № 6. P. 1527.
- Gil L., Brühl S., Jiménez L., Leon O., Guevara R., Staia M. H. // Surface and Coatings Technology. 2006. Vol. 20. P. 4424.
- Wells A., Strydom I., Le R. // Surface Engineering. 1986. Vol. 2. № 4. P. 263.
- Wells A., Strydom I. Le R. // Surface Engineering. 1988. Vol. 4. № 1. P. 55.
- Bacci T., Borgioli F., Galvanetto E., Pradelli G. // Surface and Coatings Technology. 2001. Vol. 139. № 2–3. Р. 251.
- Abedi H. R., Salehi M., Yazdkhasti M., Hemma-sian E. A. // Vacuum. 2010. Vol. 85. № 3. P. 443.
- Yang W. J., Zhang M., Zhao Y. H., Shen M. L., Lei H., Xu L., Xiao J. Q., Gong J., Yu B. H., Sun C. // Surface and Coatings Technology. 2016. Vol. 298. P. 64.
- F. Y. Dong., P. Zhang., J. C. Pang, D. M. Chen, K. Yang, and Z. F. Zhang, Materials Science and Engineering A. 587, 185 (2013).
- L.-H. Lin, S.-C. Chen, C.-Z. Wu, J.-M. Hung, and K.-L. Ou, Applied Surface Science 257, 7375 (2011).
- K. H. Lo, C. H. Shek, and J. K. L. Lai, Materials Science and Engineering R. 6, 39 (2009).
- T. Bell, Surface Engineering 18, 415 (2002).
- Gallo. S. Corujeira, X. Li., and H. Dong, Tribology letters 45, 153 (2012).
- Gallo S. Corujeira and H. Dong, Applied Surface Science 258, 608 (2011).
- A. Devaraju, A. Elaya Perumal, J. Alphonsa, S. V. Kailas, and S. Venugopal, J. Wear 288, 17 (2012).
- A. Martinavicius, G. Abrasonis, A. C. Scheinost, R. Danoix, F. Danoix, J. C. Stinville, G. Talut, C. Templier, O. Liedke, S. Gemming, and W. Moeller, Acta Materialia 60, 4065 (2012).
- H. Dong, International Materials Reviews 55, 65 (2010).
- E. Menthe, K. T. Rie, J. W. Schultze, and S. Simson, Surface and Coatings Technology 74 (1), 412 (1995).
- C. M. Lepienski, F. C. Nascimento, C. E. Foerster, S. L. R. da Silva, M. Siqueira, and Jr. C. Alves, Materials Science and Engineering A. 489, 201 (2008).
- Y. Sun, Materials Science and Engineering A. 404, 124 (2005).
- L. C. Gontijo, R. Machado, E. J. Miola, L. C. Cas-teletti, N. G. Alcantara, and P. A. P. Nascente, Materials Science and Engineering 431 (1-2), 315 (2006).
- R. R. M. De Sousa, F. O. de Araujo, J. A. P. da Costa, T. Dumelow, R. S. de Oliveira, and C. Alves, Vacuum 83, 1402 (2009).
- T. Czerwiec, N. Renevier, and H. Michel, Surface and Coatings Technology 131, 267 (2000).
- Y. Li, Z. Wang, and L. Wang, Applied Surface Science 298, 243 (2014).
- C. X. Li, Surface Engineering 26 (1-2), 135 (2010).
- P. Hubbard, S. J. Dowey, E. D. Doyle, and D. G. McCulloch, Surface Engineering 22 (4), 243 (2013).
- S. Domínguez-Meister, I. Ibáñez, A. Dianova, M. Brizuela, and I. Braceras, Surface and Coatings Tech-nology 411, 126998 (2021).
- C. X. Li and T. Bell, Wear 256 (11-12), 1144 (2004).
- T. Fraczek, M. Ogorek, Z. Skuza, and R. Prusak, The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 109, 1357 (2020).
- S. G. Kim, J. H. Lee, N. Saito, and O. Takai, Jour-nal of Physics Conference Series 417, 12 (2013).
- C. A. Figueroa and F. Alvarez, Applied Surface Science 253 (4), 1806 (2006).
- A. Sokolowska, J. Rudnickib, P. Beerc, L. Maldzinskie, J. Tacikowskid, and J. Baszkiewicz, Sur-face and Coatings Technology 142–144, 1040 (2001).
- M. K. Sharma, B. K. Saikia, A. Phukan, and B. Ganguli, Surface and Coatings Technology 201 (6), 2413 (2006).
- R. R. M. de Sousa, F. O. de Araujo, L. C. Gontijo, J. A. P. da Costa, and C. Alves, Vacuum 86, 2048 (2012).
- V. Oskirko, I. Goncharenko, A. Pavlov, A. Zakharov, and V. Semenov, Journal of Physics. Conference Series 1393, 012111 (2019).
- V. Oskirko, I. Goncharenko, A. Pavlov, A. Zakharov, S. Rabotkin, and A. Grenadyorov, 7th International Congress on Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE), 745 (2020).
- Y. Sun, X. Y. Li, and T. Bel, Journal of Materials Science volume 34, 4802 (1999).
- C. X. Li and T. Bell, Corrosion Science Volume 46 (6), 1527 (2004).
- L. Gil, S. Brühl, L. Jiménez, O. Leon, R. Guevara, and M. H. Staia, Surface and Coatings Technology 20, 4424 (2006).
- A. Wells, I. Strydom, and R. Le, Surface Engineer-ing 2 (4), 263 (1986).
- A. Wells, I. Strydom, and R. Le, Surface Engineer-ing 4 (1), 55 (1988).
- T. Bacci, F. Borgioli, E. Galvanetto, and G. Pradelli, Surface and Coatings Technology 139 (2–3), 251 (2001).
- H. R. Abedi, M. Salehi, M. Yazdkhasti, and E. A. Hemmasian, Vacuum 85 (3), 443 (2010).
- W. J. Yang, M. Zhang, Y. H. Zhao, M. L. Shen, H. Lei, L. Xu, J. Q. Xiao, J. Gong, B. H. Yu, and C. Sun, Surface and Coatings Technology 298, 64 (2016).
- X. Wang, Z. Liu, Y. Chen, J. Sun, Q. He, Q. Liu, G. Liu, and K. Xie, Surface & Coatings Technology 361, 349 (2019).
- F. Borgioli, A. Fossati, E. Galvanetto, and T. Bacci, Surface and Coatings Technology 200 (7), 2474 (2005).
- E. Menthe, A. Bulak, J. Olfe, A. Zimmermann, and K.-T. Rie, Surface and Coatings Technology 133–134, 259 (2000).
- Z. W. Wang, Y. Li, Z. H. Zhang, S. Z. Zhang, P. Ren, J. X. Qiu, W. W. Wang, Y. J. Bi, and Y. Y. He, Re-sults in Physics 24, 104132 (2021).
- E. L. Dalibón, R. D. Moreira, D. Heim, C. Forsich, and S. P. Brühl, Diamond and Related Materials 106, 107881 (2020).
- I. Boromei, L. Ceschini, A. Marconi, and C. Martini, Wear 302 (1–2), 899 (2013).
- A. S. Grenadyorov, A. A. Solovyev, and K. V. Oskomov, Technical Physics Letters 46, 1060 (2020).
- E. Damerchi, A. Abdollahzadeh, R. Poursalehi, and M. Salari Mehr, Journal of Alloys and Compounds 772, 612 (2019).
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Иванов В. А., Коныжев М. Е., Камолова Т. И., Дорофеюк А. А.
Время жизни катодных пятен на поверхности титана при возбуждении микроплазменного разряда 425
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Андрейчиков К. С., Астахов В. П., Чеканова Г. В.
Обеспечение стойкости планарных фотодиодных кристаллов из антимонида индия к коротковолновому облучению 440
Овсянников В. А., Овсянников Я. В.
Об оценке конкурентоспособности современных тепловизионных приборов по дальности действия 447
Трофимов А. А., Ухабин О. А., Смирнов А. С., Курепин С. А., Денисов И. А., Гончаров А. Е., Новикова А. А., Можаева М. О., Гладышева К. А., Косякова А. М., Малыгин В. А., Кузнецова С. А., Улькаров В. А., Размахнин И. Д.
Применение полировальных суспензий на основе поликристаллического алмаза детонационного синтеза в высокопрецизионных процессах обработки соединения кадмий-цинк-теллур 459
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Гренадёров А. С., Оскирко В. О., Захаров А. Н., Гончаренко И. М., Работкин С. В., Соловьёв А. А., Семёнов В. А.
Структура и свойства аустенитной стали AISI 316L после безводородного азотирования 469
Денисов Д. Г., Патрикеева А. А., Морозов А. Б.
Анализ статистических характеристик спекл-структуры, формируемой рассеянным лазерным излучением от шероховатой оптической поверхности 480
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Лепешкин С. Н., Молчанов В. В., Шанин Ю. И., Шарапов И. С.
Проектирование, изготовление и испытания гальванометрического сканера 490
C O N T E N T S
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Ivanov V. A., Konyzhev M. E., Kamolova T. I., and Dorofeyuk A. A.
Lifetime of cathode spots on the titanium surface when exciting a microplasma discharge 425
PHOTOELECTRONICS
Andreichikov K. S., Astakhov V. P., and Chekanova G. V.
Provide of planar photodiode crystals from indium antimonide resistance to shortwave irradiation 440
Ovsyannikov V. A. and Ovsyannikov Y. V.
On competitiveness control of modern thermal imaging devices in terms of range 447
Trofimov A. A., Ukhabin O. A., Smirnov A. S., Kurepin S. A., Denisov I. A., Goncharov A. E., Novikova A. A., Mozhaeva M. O., Gladysheva K. A., Kosyakova A. M., Malygin V. A., Kuznetsova S. A., Ul’karov V. A., and Razmakhnin I. D.
Application of polishing suspensions based on polycrystalline diamond detonation synthesis in high-precision processing of cadmium-zinc-telluride 459
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
Grenadyorov A. S., Oskirko V. O., Zakharov A. N., Goncharenko I. M., Rabotkin S. V., Solovyev A. A., and Semenov V. A.
Structure and properties of AISI 316l austenitic steel after active screen plasma hydrogen free plasma nitriding 469
Denisov D. G., Patrikeeva A. A., and Morozov A. B.
Analysis of statistical characteristics of the speckle structure, generated by scattered laser radiation from a rough optical surface 480
PHYSICAL EQUIPMENT AND ITS ELEMENTS
Lepeshkin S. N., Molchanov V. V., Shanin Yu. I., and Sharapov I. S.
Design, manufacture and testing of a galvanometer scanner 490
Другие статьи выпуска
Гальванометрический сканер (гальвосканер) – устройство для осуществления поворота лазерного пучка на определенный угол. В статье рассмотрены как подходы к проектированию элементов гальвосканера (электродвигателя постоянного тока, сканирующего зеркала, датчика угла поворота, платы драйвера управления гальвосканером), так и результаты испытаний его работоспособности после изготовления. Привод зеркала и датчика осуществлялся бесколлекторным моментным электродвигателем постоянного тока с ротором из постоянного сильного магнита, изготовленного из неодима, бора и железа – NdFeB. Зеркала изготавливались из моно-кристаллического кремния и рассчитаны на апертуру входного лазерного пучка 15 мм. Зеркала имеют отражающее покрытие, обеспечивающее коэффициент зеркального отражения R 99,6 % для длины волны лазера = 10801 нм. Разработана конструкция оптического абсолютного датчика угла поворота (энкодер) с применением светодиодов и фотодиодов. При разработке платы управления (драйвера) гальвосканером использована гибридная аналогово-цифровая архитектура, цифровая часть драйвера – цифровой сигнальный процессор.
Гальвосканеры были испытаны на работоспособность по разработанной программе и методике на специальном стенде и оборудовании, изготовленном для испытаний. В результате испытаний основные проектные характеристики (углы сканирования, шаг сканирования, скорость сканирования и позиционная повторяемость, температурное смещение нуля и долговременный дрейф) были превышены.
Исследованы статистические характеристики поля, рассеянного контролируемой шероховатой оптической поверхностью, и определены выражения для контраста спекл-структуры в зависимости от степени монохроматичности излучения лазера ИК-интерферометра. Приведены результаты экспериментальных исследований макетного образца лазерного ИК-интерферометра, построенного по модифицированной функциональной схеме Тваймана–Грина, с рабочей длиной волны излучения = 10,6 мкм и сформулированы рекомендации по выбору его элементной базы.
Приведены результаты исследования поверхности образца кадмий-цинк-теллур после обработки различными суспензиями детонационных алмазных порошков. Показано, что применение полировальных суспензий на основе поликристаллического алмаза детонационного синтеза отечественного производства в части получения качества полированной поверхности не уступает импортным аналогам.
Развита методика прогнозирования основного показателя эффективности – дальности распознавания объектов – современных высокочувствительных тепловизионных приборов (ТВП), работающих в обычном для них контрастно-ограниченном режиме, в котором их эффективность лимитируются не шумом прибора, а предельной контрастной чувствительностью зрительного аппарата оператора-дешифровщика. Выполнен сравнительный анализ существующих зарубежных и отечественных условий и методик натурных испытаний ТВП на дальность распознавания ими типового тест-объекта – танка. Показано, что, несмотря на существенное различие методик, полученные экспериментальные оценки этого показателя эффективности могут быть корректно сопоставлены с соответствующими данными для зарубежных аналогов независимо от теплового контраста тест-объекта и погодных условий. Описана процедура оценки достоверности результатов полевых испытаний ТВП на дальность действия. Приведены примеры реализации полученных результатов.
Работа посвящена модернизации топологии планарных фотодиодных кристаллов (ФДК) из антимонида индия с целью обеспечения их стойкости к коротковолновому ( 1 мкм) облучению, а также экспериментальной оценке результатов модернизации. Показано, что стойкими к коротковолновому облучению при рабочих температурах (вблизи 77 К), являются такие ФДК, в контактные системы которых включены экраны, непрозрачные для коротковолнового излучения. Определены и экспериментально подтверждены требования к геометрическим параметрам, местоположению и электрическим связям экранов в контактной системе ФДК.
Экспериментально исследована структура свечения микроплазменного разряда, инициируемого в вакууме импульсным потоком внешней плазмы на поверхности титанового образца, покрытого естественной сплошной оксидной пленкой толщиной 2–6 нм. При воздействии плазмы с плотностью около 1013 см–3 и электронной температурой 10 эВ на поверхность образца, с отрицательным потенциалом 400 В относительно потенциала плазмы, внешняя поверхность оксидной пленки приобретает положительный электрический заряд в результате потока ионов из плазмы. При этом внутри диэлектрической пленки возникает сильное электрическое поле около 4 МВ/см. Электрический пробой между заряженной поверхностью пленки и металлом инициирует возбуждение микроплазменного разряда на поверхности титана. Интегральное свечение микроплазменного разряда в макромасштабе представляет собой разветвленную структуру типа дендрита, которая в микромасштабе состоит из большого количества ярко светящихся «точечных» образований – локализованных на поверхности металла катодных пятен и свечения ореола вокруг них. С помощью высокоскоростного фоторегистратора IMACON-468 исследован фрагмент поверхности титана площадью 0,50,4 мм2 в области свечения катодных пятен. На основе анализа оптического свечения катодных пятен на 7 последовательных кадрах фоторегистратора с экспозицией каждого кадра 100 нс и интервалом между кадрами 400 нс рассчитано ожидаемое «время жизни» катодных пятен в интервале значений 0,50,2 мкс. По пространственному распределению свечения микроразрядов определено, что средний диаметр катодных пятен составляет величину около 164 мкм, при этом средний размер светящегося ореола вокруг отдельного катодного пятна достигает значения 100 мкм.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400