Одной из основных проблем для устройств инерциального электростатического удержания с инжекцией электронов является нейтрализация пространственного
заряда. Данная работа посвящена анализу проблемы квазинейтральности плазмы
в схеме осцилляторного удержания ионов на основе наносекундного вакуумного разряда (НВР). Электродинамическое моделирование процессов анейтронного синтеза протон–бор показало, что плазма в НВР, и особенно на оси разряда, действительно соответствует квазинейтральному режиму, заметно отличающемуся от известной схемы периодически осциллирующих плазменных сфер (ПОПС). В этом случае малые осцилляции в НВР есть механизм резонансного нагрева ионов, в отличии от когерентных сжатий в оригинальной модели ПОПС. Скейлинг мощности синтеза оказывается близок к схеме синтеза с ПОПС, но существенно отличается величинами па-раметра квазинейтральности и степени сжатия.
One of the main problems for inertial electrostatic confinement devices with electron injection is the space charge neutralization. This work is devoted to the analysis of the problem of plasma quasineutrality in the scheme of plasma oscillatory confinement based on nanosecond vacuum discharge (NVD). Electrodynamics modeling of the processes of aneutronic fusion of proton–boron showed that the plasma in the NVD, and especially on the discharge axis, really corresponds to a quasineutral regime, which is rather different from the well-known scheme of periodically oscillating plasma spheres (POPS). In this case, small oscillations in the NVD are a mechanism of resonant ion heating, unlike coherent compressions in the original POPS model. The scaling of the fusion power turns out to be close to the fusion scheme with POPS, but differs significantly in the values of the parameter of quasineutrality and the compression ratio.
Идентификаторы и классификаторы
- SCI
- Физика
- УДК
- 533.9. Физика плазмы
537.21. Общие вопросы (притяжение, поля, потенциал, электрическая энергия и т.д.) - Префикс DOI
- 10.51368/1996-0948-2021-6-14-23
- eLIBRARY ID
- 47365514
Несмотря на относительную простоту устройств ИЭУ с обратной полярностью, их эволюция идёт довольно медленно. Устройство с непараболической потенциальной ямой, похожее на НВР (в сечении по радиусу), было предложено в одной из самых первых теоретических работ по ИЭУ в 1959 г. [1]. В ней рассматривалась симметричная инжекция электронов в открытый полый сферический анод, которая создавала бы отрицательный электростатический потенциал в центре анода. Такая ПЯ могла бы обеспечить схождение радиальных потоков ионов к центру, где в самом фокусе возможно достижение высокой плотности ионов. Авторы [1] отмечали, что данную схему вряд ли можно будет реализовать как полноценный термоядерный реактор, но «она может быть пригодна для получения малых объёмов термоядерной плазмы для исследований» [1]. Предложенная через 40 лет
после работы [1] схема ИЭУ с ПОПС, с тепловым облаком ионов, погруженных в электронный ВК, где формируется потенциал гармонического осциллятора [7, 8], обещает в теории эффективность, необходимую даже для выработки энергии термоядерного синтеза. Однако, продвинуться далее в эксперименте в схеме ПОПС с термальными ионами и реализовать предсказанный скейлинг мощности синтеза пока не удаётся [2, 9, 12]. На сегодня, продолжая отмеченные исследования ИЭУ с обратной полярностью, за последние 15 лет нам удалось, опираясь на электродинамическое моделирование [15, 16, 19], экспериментально реализовать в миниатюрном НВР с осцилляторным удержанием как DD-синтез [14, 17, 20], так и анейтронный синтез р+11В [21]. Осцилляции в НВР являются, по-видимому, механизмом резонансного нагрева ионов, а не когерентного сжатия, как для ПОПС.
Как показало проведенное в данной работе PiC-моделирование, в отличии от схемы с ПОПС [12], нейтрализация пространственного заряда имеет свою специфику при осцилляторном удержании. Степень квазинейтральности плазмы в анодном пространстве НВР может меняться во времени по радиусу (рис. 3, а, б), и в частности, вне оси разряда в те моменты осцилляций зарядов, когда плотности протонов максимальны, плазма будет почти квазинейтральна. В остальное время вне оси преобладает пространственный заряд электронов. На самой оси разряда плазма оказывается практически нейтральной (рис. 3, в, г), и это не противоречит существованию самой ПЯ (рис. 2, а), поскольку последняя создаётся всем объёмным зарядом анодного пространства. Поскольку синтез р+11В имеет место на оси разряда или её окрестностях, скейлинг мощности синтеза в НВР будет соответствовать малым осцилляциям в квазинейтральном режиме (раздел 3).
Тот факт, что в НВР экспериментально реализован анейтронный синтез р+11В, где задействованы ионы существенно разных масс [21], также подтверждает, что наша схема осцилляторного удержания использует небольшие осцилляции типа ПОПС для нагрева плазмы именно в квазинейтральном режиме [12]. Энергия ускоряемых ионов близка к энергии инжектируемых электронов в схеме НВР, что обеспечивает её определённую стабильность [1, 12], хотя функция распределения ионов по энергиям остаётся в НВР немаксвелловской [15, 18]. В связи с последним, подчеркнём, что в имеющемся на сегодня эксперименте с НВР [15, 17, 20], время пролёта ионами объёма всего анодного пространства оказывается меньше времени, необходимого для ион-ионной релаксации при схождении ионов к оси разряда [19]. В результате, по-видимому, мы имеем в НВР не микрообъёмы термоядерной плазмы, типа предсказанных ранее в [1], а наблюдаем DD-синтез [15] и анейтронный синтез р+11В [21] в неравновесной плазме [31], остающейся «незажжённой» на оси разряда.
Список литературы
- Elmore W. C., Tuck J. L., Watson K. M. // Phys. Fluids. 1959. Vol. 2. P. 239.
- Miley G. H., Murali S. K. Inertial Electrostatic Confinement (IEC) Fusion Fundamentals and Applications. – NY.: Springer, 2014.
- Lavrent’ev О. А. // Ukrainian Phys. Journ. 1963. Vol. 8. P. 440.
- Lavrent’ev O. A. // Ann. NY Acad. Sci. 1975. Vol. 251. P. 152.
- Bondarenko B. D. // Uspekhi Phys. Nauk. 2001. Vol. 171. P. 886.
- Hirsch R. L. // J. Appl. Phys. 1967. Vol. 38. P. 4522.
- Nebel R. A., Barnes D. C. // Fusion Technol. 1998. Vol. 34. P. 28.
- Barnes D., Nebel R. // Phys. Plasmas. 1998. Vol. 5. P. 2498.
- Park J., Nebel R. A., Stange S., Murali S. K. // Phys. Plasmas. 2005. Vol. 12. P. 056315.
- Park J., Nebel R. A., Stange S., Murali S. K. // Phys. Rev. Lett. 2005. Vol. 95. P. 015003.
- Park J., Nebel R. A., Aragonez R. et al. Innovative Confinement Concepts Workshop. – USA, Texas, Austin, February 13–16, 2006) Proceedings http://icc2006.ph.utexas.edu/proceedings.php
- Evstatiev E., Nebel R., Chacon L., Park J., La-penta G. // Phys. Plasmas. 2007. Vol. 14. P. 042701.
- Chacon L., Miley G., Barnes D., Knoll D. // Phys. Plasmas. 2000. Vol. 7. P. 4547.
- Kurilenkov Yu. K., Skowronek M., Dufty J. // J. Phys. A: Math. Gen. 2006. Vol. 39. P. 4375.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V. Р., Skowronek M., Guskov S. Yu., Dufty J. // J. Phys. A: Math. Theor. 2009. Vol. 42. P. 214041.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V., Gus’kov S. Yu. // Plasma Phys. Rep. 2010. Vol. 36. P. 1227.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V., Gus’kov S. Yu. et al. // Contrib. Plasma Phys. 2011. Vol. 51. P. 427.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V., Gus’kov S. Yu., Samoylov I. S., Ostashev V. E. // J. Phys.: Conf. Ser. 2015. Vol. 653. P. 012026.
- Gus’kov S. Yu., Kurilenkov Yu. K. // J. Phys.: Conf. Ser. 2016. Vol. 774. P. 012132.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V., Gus’kov S. Yu., Oginov A., Karpukhin V. // Contrib. Plasma Phys. 2018. Vol. 58. P. 952.
- Kurilenkov Yu. K., Oginov A. V., Tarakanov V. P., Gus’kov S. Yu., Samoylov I. S. // Physical Review E. 2021. Vol. 103. P. 043208.
- Kurilenkov Yu. K., Skowronek M., Louvet G., Rukhadze A., Dufty A. // Journal de Physique IV. 2000. Vol. 10. P. Pr5–409.
- Kurilenkov Yu. K., Skowronek M. // Pramana J. Phys. 2003. Vol. 61. P. 1188.
- Tarakanov V. Р. // EPJ Web Conf. 2017. Vol. 149. P. 04024.
- Kurilenkov Yu. K., Tarakanov V., Gus’kov S. Yu. // J. Phys.: Conf. Ser. 2016. Vol. 774. P. 012133.
- Varaksin A. Yu. // Doklady Physics. 2021. Vol. 66. P. 72.
- Giuffrida L., Belloni F., Margarone D. et al. // Physical Review E. 2020. Vol. 101. P. 013204.
- Беляев В. С., Матафонов А. П., Крайнов В. П. и др. // Ядерная физика. 2020. Т. 83. № 5. C. 370.
- Демченко Н. Н., Беляев В. С., Матафонов А. П. и др. // ЖЭТФ. 2019. Т. 156. С. 428.
- Bonvalet J., Nicolai Ph., Raffestin D. et al. // Physical Review E. 2021. Vol. 103. P. 053202.
- Hirsch R. L. 14th U.S.-Japan IECF Workshop, Maryland USA, October 14–17 (2012), http://www.aero.umd.edu/sedwick/posters.html.
- W. C. Elmore, J. L. Tuck, and K. M. Watson, Phys. Fluids 2, 239 (1959).
- G. H. Miley and S. K. Murali, InertialElectrostatic Confinement (IEC) Fusion Fundamentals and Applications (Springer, NY, 2014).
- О. А. Lavrent’ev, Ukrainian Phys. Journ. 8, 440 (1963).
- O. A. Lavrent’ev, Ann. NY Acad. Sci. 251, 152 (1975).
- B. D. Bondarenko. Uspekhi Phys. Nauk 171, 886 (2001).
- R. L. Hirsch, J. Appl. Phys. 38, 4522 (1967).
- R. A. Nebel and D. C. Barnes, Fusion Technol. 34, 28 (1998).
- D. Barnes and R. Nebel, Phys. Plasmas 5, 2498 (1998).
- J. Park, R. A. Nebel, S. Stange, and S. K. Murali. Phys. Plasmas 12, 056315 (2005).
- J. Park, R. A. Nebel, S. Stange, and S. K. Murali, Phys. Rev. Lett. 95, 015003 (2005).
- J. Park, R. A. Nebel, R. Aragonez et al., Innovative Confinement Concepts Workshop (USA, Texas, Austin, Feb-ruary 13–16, 2006) Proceedings http://icc2006.ph.utexas.edu/proceedings.php
- E. Evstatiev, R. Nebel, L. Chacon, J. Park, and G. Lapenta, Phys. Plasmas 14, 042701 (2007).
- L. Chacon, G. Miley, D. Barnes, and D. Knoll, Phys. Plasmas 7, 4547 (2000).
- Yu. K. Kurilenkov, M. Skowronek, and J. Dufty, J. Phys. A: Math. Gen. 39, 4375 (2006).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Р.Tarakanov, M. Skowronek, S. Yu. Gus’kov, and J. Dufty, J. Phys. A: Math. Theor. 42, 214041 (2009).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Tarakanov, and S. Yu. Gus’kov, Plasma Phys. Rep. 36, 1227 (2010).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Tarakanov, S. Yu. Gus’kov et al., Contrib. Plasma Phys. 51, 427 (2011).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Tarakanov, S. Yu. Gus’ kov, I. S. Samoylov, and V. E. Ostashev, J. Phys.: Conf. Ser. 653, 012026 (2015).
- S. Yu. Gus’kov and Yu. K. Kurilenkov, J. Phys.: Conf. Ser. 774, 012132 (2016).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Tarakanov, S. Yu. Gus’kov, A. Oginov, and V. Karpukhin, Contrib. Plasma Phys. 58, 952 (2018).
- Yu. K. Kurilenkov, A. V. Oginov, V. P. Tarakanov, S. Yu. Gus’ kov, I. S. Samoylov, Physical Review E 103, 043208 (2021).
- Yu. K. Kurilenkov, M. Skowronek, G. Louvet, A. Rukhadze, and A. Dufty, Journal de Physique IV 10, Pr5–409 (2000).
- Yu. K. Kurilenkov and M. Skowronek, Pramana J. Phys. 61 1188 (2003).
- V. Р. Tarakanov, EPJ Web Conf. 149, 04024 (2017).
- Yu. K. Kurilenkov, V. Р. Tarakanov, and S. Yu. Gus’kov, J. Phys.: Conf. Ser. 774, 012133 (2016).
- A. Yu. Varaksin, Doklady Physics 66, 72 (2021).
- L. Giuffrida, F. Belloni, D. Margarone et al., Physical Review E 101, 013204 (2020).
- V. S. Belyaev, A. P. Matafonov, V. P. Krainov et al., Physics of Atomic Nuclei 83 (5), 370 (2020).
- N. N. Demchenko, V. S. Belyaev, A. P. Matafonov et al., JETP 156, 428 (2019).
- J. Bonvalet, Ph. Nicolai, D. Raffestin et al., Physical Review E 103, 053202 (2021).
- R. L. Hirsch, in 14th U.S.-Japan IECF Workshop, Maryland USA, October 14–17 (2012), http://www.aero.umd.edu/sedwick/posters.html.
Выпуск
С О Д Е Р Ж А Н И Е
ОБЩАЯ ФИЗИКА
Шульман И. Л., Садовникова Я. Э., Кобыш А. Н., Рогов А. Ю.
Расчет однослойных диэлектрических покрытий для просветления в заданном интервале углов падения 5
ФИЗИКА ПЛАЗМЫ И ПЛАЗМЕННЫЕ МЕТОДЫ
Куриленков Ю. К., Тараканов В. П., Огинов А. В., Гуськов С. Ю., Самойлов И. С.
О квазинейтральности плазмы при осцилляторном удержании на основе наносекундного вакуумного разряда 14
Киреев С. Г., Гавриш С. В., Кулебякина А. И., Шашковский С. Г.
Зависимость эффективности УФ-излучения импульсных ксеноновых ламп от объемной плотности мощности разряда 24
ФОТОЭЛЕКТРОНИКА
Болтарь К. О., Яковлева Н. И., Лопухин А. А., Власов П. В.
Фотоприемные устройства на основе p–i–n и барьерных структур средневолнового
ИК диапазона спектра 30
Юнусов И. В., Кондратенко А. В., Арыков В. С., Степаненко М. В., Троян П. Е.
Фотоприемник с интегрированным малошумящим усилителем X-диапазона 41
ФИЗИЧЕСКОЕ МАТЕРИАЛОВЕДЕНИЕ
Зиенко С. И., Беляков М. В.
Особенности оптической среды поверхности семян растений 47
Гренадёров А. С., Соловьёв А. А., Оскомов К. В., Яковлев Е. В.
Влияние поверхностного сплава на основе титана на свойства стали марки AISI 316L
с покрытием a-C:H:SiOx 53
Рунц А. А., С. Е. Ручкин, Ю. С. Жидик, А. В. Юрьева, М. И. Полосухина
Исследование влияния режимов осаждения пленок алмазоподобного углерода на их физико-механические характеристики 58
Кравчук Д. А.
Использование оптоакустического эффекта для измерения концентрации глюкозы 63
ФИЗИЧЕСКАЯ АППАРАТУРА И ЕЁ ЭЛЕМЕНТЫ
Зотин В. Ф., Дракин А. Ю., Рыбалка С. Б., Демидов А. А., Кульченков Е. А.
Измерительный комплекс для определения характеристик высоковольтных карбидокремниевых диодов Шоттки в импульсных режимах 67
Еханин С. Г., Томашевич А. А.
Сверхслабое свечение и нестабильности микротоков в синих GaN-светодиодах при разных стадиях деградации 74
Кондратенко В. С., Кадомкин В. В., Третьякова О. Н.
Моделирование тепловых процессов в контактных зонах тепловыделяющих элементов 83
Арсеничев С. П., Григорьев Е. В., Мазинов А. С., Пармёнов О. И., Фитаев И. Ш.
Исследование динамики нагрева металлодиэлектрических структур с нанометровыми проводящими пленками при воздействии СВЧ-полей 93
C O N T E N T S
GENERAL PHYSICS
I. L. Shulman, Ya. E. Sadovnikova, A. N. Kobysh, and A. Yu. Rogov
Calculation of single-layer dielectric coatings for antireflection in a given range of angles of incidence 5
PLASMA PHYSICS AND PLASMA METHODS
Yu. K. Kurilenkov, V. P. Tarakanov, A. V. Oginov, S. Yu. Gus’kov, and I. S. Samoylov
On the plasma quasineutrality under oscillatory confinement based on a nanosecond vacuum discharge 14
S. G. Kireev, S. V. Gavrish, A. I. Kulebyakina, and S. G. Shashkovskiy
Dependence of the Xe flash lamps’ UV radiation efficiency on the volumetric power density of the discharge 24
PHOTOELECTRONICS
K. O. Boltar, N. I. Iakovleva, A. A. Lopukhin, and P. V. Vlasov
Photodetector devices based on PIN and barrier structures of the mid-wave IR range of the spectrum 30
I. V. Yunusov, A. V. Kondratenko, V. S. Arykov, M. V. Stepanenko, and P. E. Troyan
A photoreceiver with an integrated X-band low-noise amplifier 41
PHYSICAL SCIENCE OF MATERIALS
S. I. Zienko and M. V. Belyakov
Features of the optical medium of the surface of plant seeds 47
A. S. Grenadyorov, A. A. Solovyev, K. V. Oskomov, and E. V. Yakovlev
The properties of AISI 316L steel after surface treatment with Ti surface alloy and a-C:H:SiOx coating 53
A. A. Runts, S. E. Ruchin, Yu. S. Zhidik, A. V. Yurjeva, and M. I. Polosukhina
Study of the influence of diamond-like carbon film deposition technology on the change of its physical and mechanical characteristics 58
D. A. Kravchuk
Application of the optoacoustic effect to measure glucose concentration 63
PHYSICAL APPARATUS AND ITS ELEMENTS
V. F. Zotin, A. Yu. Drakin, S. B. Rybalka, A. A. Demidov, and E. A. Kulchenkov
Measuring complex for determining the characteristics of high-voltage silicon carbide Schottky diodes in impulse modes 67
S. G. Ekhanin and A. A. Tomashevich
Ultra-weak emission and microcurrents instabilities in blue GaN LEDs at different stages of degradation 74
V. S. Kondratenko, V. V. Kadomkin, and O. N. Tretiyakova
Modeling of thermal processes in the contact zones of fuel elements 83
S. P. Arsenichev, E. V. Grigoriev, A. S. Mazinov, O. I. Parmenov, and I. Sh. Fitaev
Investigation of the dynamics of heating metal-dielectric structures with nanometer conductive film under the influence of microwave fields 93
Другие статьи выпуска
Приведены результаты экспериментальных исследований и анализ динамики нагрева металлодиэлектрических структур (МДС) с алюминиевыми проводящими пленками на подложках из стекла или ситалла при воздействии мощных СВЧ-полей, а также при воздействии постоянного и переменного токов.
На двух конкретных примерах рассмотрен общий подход в математическом моделировании тепловых процессов в контактных зонах тепловыделяющих элементов при разработке и оптимизации различных технологических процессов, систем и устройств. В первом примере рассмотрена математическая модель теплообмена в контактной зоне (металлогибридном термоинтерфейсе) между тепловыделяющим элементом и теплорассеивающим радиатором. Во втором случае рассмотрен и про-анализирован тепловой процесс при обработке материалов связанным алмазным ин-струментом в контактной зоне «алмазное зерно – связующий материал – обрабаты-ваемый материал». Общий подход в моделировании тепловых процессов в контактных зонах различных тепловыделяющих элементов позволяет оптимизировать параметры технологических режимов обработки и правильные условия эксплуатации изделий и систем.
Установлено, что сверхслабое свечение, наблюдающееся в режиме нано- и микротоков в синих GaN-светодиодах с множественными квантовыми ямами, обусловлено туннельно-рекомбинационными процессами с участием дефектных состояний и локальных потенциальных ям различной глубины, возникающих вследствие планарных флуктуаций индия в слоях InGaN активной области. Получены цифровые фотографии и проанализированы картины сверхслабого свечения поверхности кристаллов светодиодов. Показано, что картины свечения наряду с вольтамперной характеристикой демонстрируют значительные изменения после испытаний еще на начальных этапах деградации, что указывает на высокую чувствительность этих параметров к деградационным процессам и на возможность их использования в методах диагностики и неразрушающего контроля.
Разработан отечественный автоматизированный исследовательский измерительный комплекс, позволяющий определять значения токов, напряжений и мощности карбидо-кремниевых диодов Шоттки при подаче импульсов обратного напряжения с амплитудами от 400 до 1000 В. Исследовательский измерительный комплекс был протестирован на карбидокремниевых диодах Шоттки DDSH411A91 («ГРУППА КРЕМНЫЙ ЭЛ») и C3D1P7060Q (Cree/Wolfspeed) и позволил определить их максимальные значения скорости нарастания обратного напряжения dV/dt (877 В/нс и 683 В/нс). Также были определены максимальные значения скорости нарастания тока dI/dt для диодов DDSH411A91 (3,24 А/нс) и C3D1P7060Q (3,72 А/нс). Впервые установлено, что при подаче импульса обратного напряжения амплитудой 1000 В максимальные значения мгновенной полной мощности достигают 1419 ВА для диода DDSH411A91 и 1638 ВА для диода C3D1P7060Q.
Исследован оптоакустический метод, имеющий высокое пространственное разрешение, для измерения концентрации глюкозы в крови. Оптоакустический эффект заключается в возбуждении акустических колебаний в жидкой среде в результате поглощения оптического излучения и локального термического нагрева среды. Проведены экспериментальные измерения в свиной крови при различных концентрациях глюкозы с использованием насоса для моделирования кровотока.
В настоящее время доступны только два инвазивных метода для измерения глюкозы в крови: первый, самый обычный метод требует забора образца крови, который затем транспортируется и анализируется в клинической лаборатории, нанесение крови на тест полоски глюкометра. Забор крови, особенно у детей, бывает сложным, кроме того, клинические исследования требуют времени. Следовательно, неинвазивный,
непрерывный мониторинг глюкозы оптоакустическим методом является перспективным.
Представлены результаты отработки режимов осаждения пленок алмазоподобного углерода на поверхность подложек из нержавеющей стали при разных параметрах процесса, проведена количественная оценка содержания sp3-связей и физико-механических характеристик полученных покрытий, сформулирован вывод о влиянии технологических параметров процесса осаждения на данные характеристики.
В работе представлены результаты по исследованию коррозионных и механических свойств нержавеющей стали марки AISI 316L после комбинированной поверхностной обработки. Обработка заключалась в формировании поверхностного сплава на основе титана с помощью низкоэнергетического сильноточного электронного пучка, который служил в качестве подслоя, и последующего нанесения a-C:H:SiOx покрытия методом плазмохимического осаждения. Показано, что такая комбинированная обработка поверхности повышает коррозионную стойкость стали, т. е. снижает плотность тока коррозии с 110-7 до 910-10 А/см2 и скорость коррозии с 1,110-3 до 9,310-6 мм/год. При этом модифицированная поверхность обладает высокими механическими и трибологическими свойствами.
Обнаружено, что покровная ткань семян растений обладает свойством усиления света люминесценции. Это явление проявляется как во временной, так и в частотной области. Коэффициент усиления (по мощности) в зависимости от типа семени меняется от 1,7 (фасоль) до 2,6 (рожь). Для его определения оптическую среду поверхности семян растений представляли в виде динамического звена, имеющего вход и выход. Импульсную (временную) характеристику звена находили по кривой релаксации люминесценции. Зависимость коэффициента усиления от температуры выражается в том, что при уменьшении ее от 50 оC до -30 оC, коэффициент усиления увеличивается от 1,73 до 2,48. Данное явление можно объяснить тем, что на стадии релаксации люминесценции коэффициент поглощения оптической среды поверхности семени принимает отрицательное значение.
Приведены результаты разработки модуля фотоприемника с интегрированным малошумящим усилителем (МШУ) электрического сигнала. Использование фотодетектора на основе коммерческого фосфид-индиевого фотодиода и специально разработанной переходной платы обеспечило возможность использования оптической несущей с длиной волны 1,31 и 1,55 мкм и выполнения оптоэлектронного преобразования электрического сигнала в диапазоне частот от 0 до 50 ГГц. Разработанный и интегрированный в модуль бескорпусной малошумящий усилитель на основе арсенида галлия позволил компенсировать потери преобразования фотодиода в X-диапазоне частот с минимальным добавочным шумом. Модуль фотоприемника предназначен для использования в качестве приемной части радиофотонного тракта, который обеспечивает существенное расширение дальности передачи сверхвысокочастотного сигнала по сравнению с классическими типами линий передачи (к примеру, коаксиальной или волноводной).
- Исследованы многослойные структуры на основе полупроводниковых материалов группы антимонидов с поглощающими слоями InSb, и AlxIn1-xSb, в том числе структуры с барьерным слоем InAlSb (InSb/InAlSb/InSb), предназначенные для изготовления перспективных фотоприемных устройств (ФПУ), детектирующих излучение в средневолновом инфракрасном (ИК) диапазоне спектра. На основе выращенных методом МЛЭ p–i–n и барьерных структур изготовлены фоточувствительные элементы (ФЧЭ) различной топологии с поглощающими слоями InSb, и AlxIn1-xSb. Показано, что широкозонные тройные растворы AlxIn1-xSb детектирующие излучение в средневолновой области спектра, являются альтернативой узкозонному бинарному соединению InSb, поскольку, вследствие широкозонности, фотодиоды на основе AlxIn1-xSb имеют меньшие темновые токи, а, следовательно, шумы. Для фотоприемных устройств на основе структур различной топологии измерены средние значения обнаружительной способности и эквивалентной шуму разности температур (ЭШРТ), так для р–i–n-структур среднее по ФЧЭ значение обнаружительной способности превысило D* 1011 см Вт-1 Гц1/2, а для структур с барьерным слоем – D* 1012 см Вт-1 Гц1/2.
Представлены результаты исследования влияния пиковой и средней электрической объемной плотности мощности на эффективность излучения и яркостную температуру в бактерицидном диапазоне спектра 200–300 нм. Получена линейная зависимость изменения КПД излучения в диапазоне от 5,1 до 8,4 % при росте средней объемной плотности мощности от 177 до 390 кВт/см3. Зависимость яркостной температуры в указанной области спектра от пиковой объемной плотности мощности представляет собой логарифмический характер с уменьшением скорости роста при приближении к 9 кК. Такой эффект может быть связан как с запиранием излучения парами испаренного кварца, так и с экранированием УФ-излучения внешними слоями плазмы.
Сформулирована задача просветления однослойной магнитодиэлектрической системы при прохождении через нее плоской электромагнитной волны в интервале углов падения и получены необходимые и достаточные условия существования решений этой задачи.
Издательство
- Издательство
- АО "НПО "ОРИОН"
- Регион
- Россия, Москва
- Почтовый адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- Юр. адрес
- 111538, г Москва, р-н Вешняки, ул Косинская, д 9
- ФИО
- Старцев Вадим Валерьевич (ГЕНЕРАЛЬНЫЙ ДИРЕКТОР)
- E-mail адрес
- orion@orion-ir.ru
- Контактный телефон
- +7 (499) 3749400